English
日本レーザー
小間番号 : 6E-15            新製品 サンプル

自社PR文

当社は1968年設立し、レーザーおよび光学機器の草分け的な専門商社です。最先端のレーザー発振機や光学機器の他、今回展示する、ナノ粒子径分布測定装置やマスクレス・リソグラフィ装置といったレーザー応用装置までラインナップ。また、マスクレス・リソグラフィィ装置に加えて、微細加工分野向けにナノインプリント装置やスタンパー、高精度ディスペンサー、そしてフォトレジストやUV硬化樹脂まで、ユニークな技術を紹介します。

製品・技術に関する特記事項

ナノ粒子と微細加工の2つの分野に向けたユニークな装置、技術を提案します。前者には、動的光散乱法に基づき、独自のクロスコリレーション方により高濃度試料においても高精度な測定を可能にしたナノ粒子径分布測定装置。後者には、サブミクロンに至る高精細パターンを描画できるだけでなく、先進のグレイスケール露光機能によりレジスト中に3次元トポグラフィを形成可能なマスクレス・リソグラフィ装置を中心に、軽量ながら450mm×500mmまでの大面積転写を可能にしたナノインプリント装置、3次元に至る複雑なマイクロ構造付スタンパー、高粘度材および極微量吐出に対応した高精度ディスペンサー、そして405nm波長に感度を有する厚膜のネガ/ポジ・レジスト、バイオ・コンパチブルのUV硬化樹脂などユニークな微細加工装置、テクノロジーを紹介致します。




出展製品・技術 1

マスクレスリソグラフィ装置

【ナノ加工・処理技術/装置】
次世代リソグラフィー
応用分野(マーケット)
半導体・電子部品、電気・電子機器・総合電器
上記の他、マイクロ・オプティクス、マイクロ流路およびUV-LIGAによる高アスペクト比構造形成にお使い頂けます。

出展製品・技術 2

高濃度ナノ粒子径分布測定装置

【ナノ評価・計測・分析技術/装置】
分析装置

出展製品・技術 3

大面積ナノインプリント・システム

【ナノ加工・処理技術/装置】
ナノインプリント
応用分野(マーケット)
半導体・電子部品、電気・電子機器・総合電器

出展製品・技術 4

微細構造付スタンパ

【ナノ加工・処理技術/装置】
ナノインプリント
応用分野(マーケット)
半導体・電子部品、電気・電子機器・総合電器、表面処理加工

出展製品・技術 5

厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト

【ナノ加工・処理技術/装置】
次世代リソグラフィー
応用分野(マーケット)
半導体・電子部品、電気・電子機器・総合電器

連絡先情報

下記情報は来場者から出展者への事前アポイント・問合せを目的に公開しています。
それ以外の目的(セールス等)で無断に使用・転載する事を固く禁じます。

 

株式会社日本レーザー

営業本部 システム機器部

〒 1690051
東京都 新宿区西早稲田2-14-1

TEL : 03-5285-0861      FAX : 03-5285-0860

URL: http://www.japanlaser.jp/

 

ICSビジネスマッチングシステムへご登録頂く事で、気になる企業の詳細情報の確認やアポイント申込が可能です!
ICSビジネスマッチングシステムとは? ⇒ http://www.nanotechexpo.jp/main/icsbizmatch_nanotech.html